自動イオンクロマトグラフ
電気化学的サプレッサーは、継続的に自己再生するように特別に設計されています。
溶離液はバックグラウンド導電率が高いため、分析対象物からのシグナルを検出できるように、化学的阻害を行う必要があります。バックグラウンド導電率の抑制は、溶離液中のCO32-およびHCO3-と電気分解によって生成されたH +との反応により、陰イオン分析中に導電率の低いH2CO3が生成され、溶離液中のH +と電解によって生成されたOH-との反応によりH2Oが生成されます。 。
H +またはOH-イオンは、イオン交換膜の自動再生を実現するために、余分な溶離液を追加せずに電気分解によって生成されます。
陰イオンおよび陽イオン用の自己再生電気化学サプレッサーは、大きな抑制能力、低いバックグラウンド導電率(ppbレベル)、低いデッドボリューム、迅速な平衡、良好な再現性、簡単な操作、簡単なメンテナンスなどの機能を備えています。
•フルPEEKダブルプランジャーと低脈動注入ポンプ。幅広い流量、安定した操作、低メンテナンスコストを実現します。
•金属汚染、高圧、酸、アルカリからの保護と有機溶媒との適合性のためのフルPEEKフローシステム。
•高速データ送信および処理機能と、機器コンポーネントの動作状態の自動識別、制御、およびリアルタイム監視により、継続的で安定した分析を保証します。
•高感度、高安定性を備えた高度なデジタル熱伝導度検出器により、正確で信頼性の高い結果が保証されます。
•自動溶離液調製を実現するオプションの溶離液ジェネレータ。
高度なソフトウェアシステム
すべての計測器パラメータはソフトウェアを介して制御され、インターフェースに表示されます。
エースクロマトグラフィーソフトウェアは強力で理解しやすいです。機器はフロントパネルからも操作できます。各コンポーネントのリアルタイムステータスは、分析プロセス全体を通じて監視できます。
EG100溶離液ジェネレーター-イオンクロマトグラフィーの救いの手
オペレーターは、分析中にさまざまな濃度およびさまざまなタイプの溶離液を変更する必要があることがよくあります。これにより、重い作業負荷が発生し、人為的エラーが発生することは避けられません。この問題を解決するために、南兵衛は追加のデガッシングユニットなしで独自の自動化されたEG100溶離液ジェネレーターを発売しました。
•科学的で合理的な構造設計と、溶離液の確実な生成を保証する追加の脱気ユニットはありません。
•濃度グラジエント溶出を実現するために必要なポンプは1つだけです。
•陰イオン分析用のOH-、CO32- / HCO3-溶離液と、陽イオン分析用のメタンスルホン酸溶離液の両方が自動的に生成されます。
•シンプルな操作と制御。溶離液の濃度は、ソフトウェアまたはフロントパネルで設定できます。
•オペレーターの時間を節約するために、手動で準備することなく、高純度の溶離液が自動的に生成されます。
•手動の溶離液調製と長期保存によるエラーを排除し、分析結果の再現性を大幅に向上させます。
•バックグラウンドの導電率とノイズをさらに低減し、検出感度を向上させます。
•ユーザーが化学薬品にさらされる時間を短縮して、より安全な作業環境を作成します。
•フロントパネルを介して個別に制御し、任意のイオンクロマトグラフで使用できます。
DM-100 / DM-101オンラインデガッサ
用途:DM-100 / DM-101オンラインデガッサは、Nanbei-2800シリーズイオンクロマトグラフ、LC-5500シリーズ高速液体クロマトグラフ、または他社のイオンクロマトグラフと液体クロマトグラフに使用できます。
特徴:オンラインデガッシングは、アイソクラティック溶出またはグラジエント溶出のどちらを使用するかに関係なく、高い脱気効率、簡単な設置、高速ベースライン平衡、ドリフトなし、および低ノイズの機能を備えています。
設置:DM-100 / DM-101オンラインデガッシングは、顧客の要件に応じて1〜4個のデガッシングチャネルを装備できます。ペアになっているクロマトグラフィーシステムの全体的な構造設計に基づいて、水平または垂直のデガッサの向きを選択できます。オンラインデガッサは、リザーバータンクと輸液ポンプの間に設置できます。
分析 | |
検出可能なイオン | アニオンs:F-、Cl-、NO2-、Br-、 BrO3-、NO3-、HPO42-、SO32-、S2O32-、SO42-、HCOO-、酢酸、シュウ酸、滅菌済みの副産物 水道水カチオンs:Li +、Na +、SMALL4+、K +、Mg2 +、Ca2 + |
検出Rアンジュ | ppbppm |
動的Rアンジュ | 103 |
線形R大喜び効率的 | 0.9998Cl-およびLi+ |
ベースラインNオワーズ | ≤0.5%FS |
ベースラインDリフティング | ±1.5%FS/30分 |
流体ポンプ | |
タイプ | パラレルデュアルピストンポンプ、マイクロプロセッサによって制御されるパルスとモーション、速度 調整可能。 |
工事 | ポンプヘッドおよびフローシステム用の化学的に不活性な非金属PEEK材料 |
pH | 0-14 |
コントロール | エースソフトウェアまたはフロントパネルによる |
動作圧力 | 最大35MPa(5000 psi) |
フロー割合範囲 | 0.001~15.00 mL / min、0.001増分 |
フロー精度 | ≤0.1%RSD |
流れの精度 | ±0.2% |
ピストンバルブのクリーニング | ダブルピストン連続洗浄 |
過圧保護 | 上限0〜35 MPa、1単位増分、下限:上限より1単位低い 制限。 上限に達するとポンプは作動を停止します |
オンラインデガッシング(オプション | 2チャンネル、utomaticオンライン |
温度制御伝導度検出器 | |
タイプ | マイクロプロセッサ制御のデジタル信号 |
セル周波数 | 10 kHz |
検出範囲 | 0-15000 µS |
解決 | 0.0275 nS / cm |
セル温度範囲 | 室温〜60℃、ユーザー調整可能 |
温度安定性 | ≤0.005℃ |
セルの構築 | ピーク |
セルボリューム | <1 µL |
カラムオーブン | |
温度範囲 | 室温+ 5〜60℃ |
温度精度 | ±0.5°C |
温度安定性 | ≤0.1°C |
サプレッサー | |
抑制タイプ | 自動化された自己再生再循環 |
抑制Capacity | アニオン100ミリモル/ LNaOH |
カチオン100ミリモル/ LMSA | |
デッドボリューム | <50L |
平衡時間 | 15分 |
アニオン Sアプレッサー電流 | 0〜200 mAin1mA刻み |
カチオン Sアプレッサー電流 | 0〜300 mAin1mA刻み |
溶離液ジェネレータ | |
溶離液濃度範囲 | 0.1〜50ミリモル/ L |
溶離液タイプ | ああ-, CO32- / HCO3-, MSA |
濃度増分 | 0.1ミリモル/ L |
フロー割合範囲 | 0.5〜3.0 mL / min |
作動温度 | 室温-40℃ |
動作湿度 | 5%-85%相対湿度、結露なし |
寸法長さ×幅×高さ | 586mm×300mm×171mm |
重さ | 5kg |
自動sアンプラー | |
サンプル位置 | 120サンプル(1.8mLバイアル) |
再現性 | <0.3 RSD |
残基/交差汚染 | CV <0.01% |
サンプルとボリューム | 0.1µL-100 µL |
インジェクションプローブのクリーニング | 繰り返しのクリーニング、時間制限なし |
寸法長さ×幅×高さ | 505mm×300mm×230mm |
力 | 220±10V、50 / 60Hz |
その他の仕様 | |
力 | 220±10V、50/60 Hz |
環境温度 | 5℃40℃ |
環境湿度 | 5%〜85%の相対湿度、結露なし |
通信インターフェース | RS485(USBオプション) |
寸法(長さ×幅 ×高さ) | 586mm×300mm×350mm |
重さ | 34 kg |
力 | 150W。 |